近年來，我國半導體行業(yè)發(fā)展有了很大的進步，其中惠及了晶圓代工、存儲、高新設備、應用材料及其他許多下游產業(yè)。英銳恩單片機開發(fā)工程師表示，半導體芯片是信息技術行業(yè)的基石，但是目前國內的集成電路主要仍依賴進口。

一、什么是極紫外（EUV）光刻技術？

極紫外（EUV）的全稱為“極紫外線光刻”，英文全稱為Extreme Ultra-Violet。英銳恩單片機開發(fā)工程師解釋說，該技術使用波長非常短的光，以更快、更準確地刻蝕晶圓。舉個簡單的例子，我們將舊的技術想像成毛筆寫字，將EUV光源想像成鋼筆，兩者在同一張紙上寫字，鋼筆可以寫的字更多。對EUV技術來說，它可以生產更小的晶體管尺寸，從而使處理器和其他電子設備更便宜、更強大、更節(jié)能。

英銳恩單片機開發(fā)工程師表示，使用EUV光刻技術，可以使芯片更便宜、功能更強大、速度更快且功耗更低。特別是近年來飛速發(fā)展的物聯(lián)網（IoT）和5G以及AI和機器學習所需的高科技組件，半導體光刻技術的納米級節(jié)點正成為其中的關鍵。

在EUV光刻領域中，全球主導者是荷蘭公司ASML，該公司主要為英特爾、三星、臺積電等“三大”全球半導體制造商提供設備和相關技術。

英特爾創(chuàng)始人之一戈登·摩爾（Gordon Moore）曾提出一個規(guī)律，叫做摩爾定律，它不是物理和自然法則。戈登·摩爾觀察到，集成電路中晶體管的數(shù)量大約每兩年翻一番，并預測這種趨勢將無限期地持續(xù)下去。

為了遵循摩爾定律，ASML一直在探索進一步減小晶體管尺寸（通常稱為節(jié)點尺寸）的方法，并且在EUV光刻領域取得了長足的進步。目前，ASML的最新的光刻設備可以更精確、更高效地生產半導體在較小的晶體管規(guī)模上，節(jié)點尺寸約為7nm，甚至更小的5nm。

二、EUV光刻技術的應用市場

EUV光刻的兩個主要應用市場是智能手機和電腦處理器，其中功耗、尺寸和效率是重要因素。例如，對于智能手機，驍龍865芯片為7nm節(jié)點大小的處理器，而iPhone 11的A13為7nm節(jié)點大小的處理器。另外，華為的麒麟980處理器也是使用7納米節(jié)點工藝。

三星近期發(fā)布了其用于3nm柵極全能（GAA）工藝的產品設計套件，預計2020年完成開發(fā)。與7nm技術相比，它使設計人員能夠將芯片面積減少45％，功耗降低50％或性能提高35％。

英銳恩單片機開發(fā)工程師表示，基于GAA的節(jié)點工藝，未來可能會廣泛用于汽車、人工智能和物聯(lián)網等下一代應用中。這些功能更強大、效率更高的處理器將加速物聯(lián)網（IoT）的普及。

事實證明，節(jié)點越小，收益最大的領域是處理器。例如，它們使物聯(lián)網設備能夠更快速地處理大量數(shù)據，降低了無人駕駛汽車等領域的自動化設備的準入門檻。隨著物聯(lián)網設備的廣泛使用，以及AI和自動駕駛技術的越來越多的應用，納米級節(jié)點尺寸正迅速成為技術進步的關鍵。

以上就是英銳恩單片機開發(fā)工程師分享的有關的信息半導體行業(yè)的發(fā)展信息。英銳恩專注單片機應用方案設計與開發(fā)，提供8位單片機、16位單片機、32位單片機、運算放大器和模擬開關。